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Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

簡(jiǎn)要描述:Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi),具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪  問(wèn)  量:1367

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM


Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi),具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

產(chǎn)品介紹

Ø在以800 nm為中心的寬區(qū)域中具有高反射率和低群延遲色散

Ø硬質(zhì)介電體高反射或離子束濺射鍍膜

Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,800 nm典型值

EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設(shè)計(jì)用于Ti:Sapphire激光器的一階諧波。

標(biāo)準(zhǔn)反射鏡具有高反射率(> 99%),并且為082-7288HHR物品(UV FS,Ø25.4x 6 mm)定了更高的反射率(> 99.8%)。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

產(chǎn)品型號(hào)

BK7

型號(hào)

波長(zhǎng)

材料

尺寸

AOI

R, %(S+P)/2

071-7288

720-880 nm

BK7

ø12.7 x 3 mm

45°

99.0%

071-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø12.7 x 3 mm

99.0%

071-7288T6

720-880 nm

BK7

ø12.7 x 6 mm

45°

99.0%

071-7288T6-i0

720-880 nm

BK7

ø12.7 x 6 mm

99.0%

072-7288

720-880 nm

BK7

ø25.4 x 6 mm

45°

99.0%

072-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø25.4 x 6 mm

99.0%

074-7288

720-880 nm

BK7

ø38.1 x 8 mm

45°

99.0%

074-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø38.1 x 8 mm

99.0%

075-7288

720-880 nm

BK7

ø50.8 x 8 mm

45°

99.0%

075-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø50.8 x 8 mm

99.0%

077-7288

720-880 nm

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.0%

077-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

99.0%

078-7288

720-880 nm

BK7

ø101.6 x 15 mm

45°

99.0%

078-7288-i0

720-880 nm

BK7

ø101.6 x 15 mm

99.0%

UVFS

型號(hào)

波長(zhǎng)

材料

尺寸

AOI

R, %(S+P)/2

081-7288

720-880 nm

UVFS

ø12.7 x 3 mm

45°

99.0%

081-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø12.7 x 3 mm

99.0%

081-7288T6

720-880 nm

UVFS

ø12.7 x 6 mm

45°

99.0%

081-7288T6-i0

720-880 nm

UVFS

ø12.7 x 6 mm

99.0%

082-7288

720-880 nm

UVFS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.0%

082-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø25.4 x 6 mm

99.0%

082-7288HHR

720-880 nm

UVFS

ø25.4 x 6 mm

45°

99.8%

082-7288HHR-i0

720-880 nm

UVFS

ø25.4 x 6 mm

99.9%

084-7288

720-880 nm

UVFS

ø38.1 x 8 mm

45°

99.0%

084-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø38.1 x 8 mm

99.0%

085-7288

720-880 nm

UVFS

ø50.8 x 8 mm

45°

99.0%

085-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø50.8 x 8 mm

99.0%

087-7288

720-880 nm

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

45°

99.0%

087-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

99.0%

088-7288

720-880 nm

UVFS

ø101.6 x 15 mm

45°

99.0%

088-7288-i0

720-880 nm

UVFS

ø101.6 x 15 mm

99.0%

 

規(guī)格:

鍍膜

硬電介質(zhì)高反射或離子束濺射

入射角

0或45±3°

專(zhuān)為平均偏振而設(shè)計(jì)

R =(Rs + Rp)/ 2

激光損傷閾值

> 50 mJ / cm2,50 fsec,800 nm典型值

 

基材:

材料

UV級(jí)熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm時(shí)為λ/ 10

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

<3分鐘

倒角

在45°典型值為0.3mm

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

 

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