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簡(jiǎn)要描述：平面全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。
產(chǎn)品品牌：其他品牌廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2023-01-04訪 問 量：1315相關(guān)文章
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| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
平面全息光柵
全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠(yuǎn)少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。
600l/mm---UV
1200l/mm---UV
1800l/mm---UV
2400l/mm---UV
3600l/mm---UV
1200l/mm---VIS
1800l/mm---VIS
2400l/mm---VIS
特征
光柵基片材料： | 浮法玻璃 |
表面光潔度： | 60-40 |
尺寸誤差： | ±0.5 mm |
厚度公差: | ±0.5mm |
效率: | 45%~65% @峰值波長(zhǎng) |
有效孔徑: | 90% |
損傷閾值: | 350mJ/cm2@200ns脈沖激光 40W/cm2（CW）連續(xù)激光 |
產(chǎn)品編號(hào) | 產(chǎn)品名稱 | 尺寸 | 刻線數(shù) | 優(yōu)化波段 | 色散 |
379500 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 600Lines/mm | 紫外(UV) | 1.67nm/mrad@250nm |
379501 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 1200Lines/mm | 紫外(UV) | 0.82nm/mrad@250nm |
379502 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 1800Lines/mm | 紫外(UV) | 0.54nm/mrad@250nm |
379503 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 2400Lines/mm | 紫外(UV) | 0.40nm/mrad@250nm |
379504 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 3600Lines/mm | 紫外(UV) | 0.25nm/mrad@250nm |
379505 | 平面光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 600Lines/mm | 紫外(UV) | 1.67nm/mrad@250nm |
379506 | 平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 1200Lines/mm | 紫外(UV) | 0.82nm/mrad@250nm |
379507 | 平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 1800Lines/mm | 紫外(UV) | 0.54nm/mrad@250nm |
379508 | 平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 2400Lines/mm | 紫外(UV) | 0.40nm/mrad@250nm |
379509 | 平面光柵 25x25x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 3600Lines/mm | 紫外(UV) | 0.25nm/mrad@250nm |
379510 | 平面光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 600Lines/mm | 紫外(UV) | 1.67nm/mrad@250nm |
379511 | 平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 紫外(UV) | 0.82nm/mrad@250nm |
379512 | 平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1800Lines/mm | 紫外(UV) | 0.54nm/mrad@250nm |
379513 | 平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 2400Lines/mm | 紫外(UV) | 0.40nm/mrad@250nm |
379514 | 平面光柵 50x50x9.5mm 3600Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 3600Lines/mm | 紫外(UV) | 0.25nm/mrad@250nm |
379515 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 1200Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.79nm/mrad@500nm |
379516 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 1800Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.50nm/mrad@500nm |
379517 | 平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 12.7x12.7x6mm | 2400Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.33nm/mrad@500nm |
379518 | 平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 1200Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.79nm/mrad@500nm |
379519 | 平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 1800Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.50nm/mrad@500nm |
379520 | 平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 25x25x6mm | 2400Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.33nm/mrad@500nm |
379521 | 平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1200Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.79nm/mrad@500nm |
379522 | 平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 1800Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.50nm/mrad@500nm |
379523 | 平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃 | 50x50x9.5mm | 2400Lines/mm | 可見 (VIS) | 0.33nm/mrad@500nm |
全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠(yuǎn)少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠(yuǎn)少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。全息光柵通常用于對(duì)雜散光敏感的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強(qiáng)度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對(duì)其照射的光強(qiáng)決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強(qiáng)。然后可以對(duì)基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠(yuǎn)少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。
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